現有装置
化学気相蒸着(CVD)装置 （柳瀬）
1号機
2号機
3号機
固体原料である硫黄と遷移金属塩化物を気化させ、Arガスにより電気炉内に輸送し、基板上でそれらを反応させることにより遷移金属ダイカルコゲナイドの薄膜を合成する。反応条件を適切に制御することで1nm以下の厚さである単層膜を作製することもできる。
4端子シート抵抗測定装置 （柳瀬）
合成したNbS2薄膜やMo1-xNbxS2薄膜のシート抵抗を測定するために使用します。
電気化学測定装置（柳瀬）
NbS2などの金属的なTMDCの水素発生反応について評価するために用います。写真はPt電極を利用した時のものです。
グローブボックス1号 （柳瀬）
ボックス内の空気は循環されて、常に水分と酸素を除去しており完全な不活性雰囲気となっている。大気中ですぐに酸化されてしまうような不安定な材料を取り扱うことができる。1号機では無機化合物を取り扱う。
グローブボックス2号 （柳瀬）
2号機は循環精製していない単純な置換型グローブボックスである。有機化合物を取り扱う。
偏光/実体顕微鏡 （柳瀬）
実体顕微鏡は細かな作業をするときに用いることが多い。偏光顕微鏡を利用すれば、単結晶X線用の結晶を選別することができる。
ロータリーエバポレーター （柳瀬）
反応後の溶媒を除去するための装置。自作の圧力制御回路付きで、内部の圧力を最適化しながら動作させることができる。
